外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响

• 作者: 刘思宇
• 来源期刊: 中国瓜菜
• 关键词: 黄瓜 温室 遮挡部位 生长 外源补光
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 11-13
• 页数: 3页
• 字数: 1977字
• 语种: 中文

摘要

为研究外源补光对温室遮光部位黄瓜生长的影响,以‘绿剑’旱黄瓜为试验材料,在冬季对模拟温室墙下的植株分别进行补光,并以未补光植株作为对照,分别测定了在不同光照条件下,植株生长过程中的营养生长情况、相关生理生化指标以及光合作用中相关生化指标的变化情况.结果表明:处理W1较WCK的产量提高了146.96％,处理E1较ECK的产量提高了245.15％,说明通过一定的外源补光,能够有效地提高受到遮挡植株的各方面生理指标,最终达到提高产量的目的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘思宇		37	52	3.0	5.0