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摘要:
钼溅射靶材以溅射薄膜方式被消耗,钼合金薄膜是目前信息存储、集成电路芯片、特别是平板显示器、薄膜太阳能电池、蓝宝石制造等行业中必不可少的关键材料.这些行业中用的特殊钼制品主要有钼溅射靶材,包括平面靶和管状旋转靶,制作结晶蓝宝石用的钼坩埚等.随着平面显示器面板(LCD)生产线不断向大型化发展,对平面溅射板靶的尺寸要求也越来越大.管状溅射靶材利用率理论上可达70%,大大高于平面靶20%~30%的利用率,因此降低了镀膜生产成本,是靶材发展的方向.大口径薄壁钼坩埚是蓝宝石晶体生长炉中常用的耗材,可大大降低电耗,节能效果明显,近年来得到了各厂商广泛使用.
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文献信息
篇名 光伏及LED行业用特种钼制品研究现状
来源期刊 中国钼业 学科 工学
关键词 钼溅射靶 钼管靶 旋压钼坩埚
年,卷(期) 2016,(6) 所属期刊栏目 综合评述
研究方向 页码范围 1-3
页数 3页 分类号 TG146.4+12
字数 3544字 语种 中文
DOI 10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2016.06.001
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 梁静 30 98 6.0 7.0
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研究主题发展历程
节点文献
钼溅射靶
钼管靶
旋压钼坩埚
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
中国钼业
双月刊
1006-2602
61-1238/TF
大16开
西安市高新区锦业1路88号金钼股份工业园B座2层
52-144
1977
chi
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