溅射设备腔室处理工艺的优化研究

• 作者: 王海东
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射设备 腔室处理 溅射工艺 工艺优化
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 1692字
• 语种: 中文

摘要

对溅射原理进行了详细的分析,对溅射设备的结构组成进行了概括性的说明.研究了溅射腔室的传统工艺处理流程,并提出了新的工艺处理流程.实验表明,新的工艺流程更加省时省力,效果上也更好,应用于实际中,带来了一定的经济效益.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王海东		21	33	3.0	5.0