Al/Ni反应多层膜的电爆炸及驱动性能研究

• 作者: 张子超 曾庆轩 李明愉 王涛
• 来源期刊: 火工品
• 关键词: 含能材料 Al/Ni反应多层膜 爆炸箔起爆系统 沉积能量
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TJ450.4
• 语种: 中文

摘要

为了研究Al/Ni反应多层膜在爆炸箔起爆系统上应用的可行性，采用磁控溅射法制备了相同厚度的Cu和Al/Ni多层膜桥箔，利用SU-8光刻胶制备一定厚度的加速膛，研究了两类桥箔在相同放电回路中的沉积能量和驱动飞片的平均速度。结果表明：在储能电容电压为1306V的放电回路中，Al/Ni多层膜的沉积能量为0.1205~0.1274J，相比Cu箔提高了近1倍。在电压为1900V时，多层膜沉积能量比Cu箔提升了18%~58%；多层膜驱动的飞片平均速度高于Cu箔驱动飞片约10%。因此，Al/Ni反应多层膜能降低爆炸箔起爆系统的起爆阈值，提高其冲击起爆的可靠性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	曾庆轩	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	120	1441	20.0	29.0
2	李明愉	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	48	495	13.0	20.0
3	王涛	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	66	449	12.0	16.0
4	张子超	北京理工大学爆炸科学与技术国家重点实验室	2	3	1.0	1.0