阴离子有机硅双子表面活性剂的合成研究

• 作者: 孙小龙 王丽艳 王玉萍 邢凤兰
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 工学
• 关键词: 双子表面活性剂 γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷 丙烯酸甲酯 戊二酰氯
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 研究报告 Research Reports
• 页码范围: 11-14
• 页数: 4页
• 分类号: TQ423
• 字数: 2191字
• 语种: 中文

摘要

以γ-氨丙基二乙氧基甲基硅烷、六甲基二硅氧烷、丙烯酸甲酯、戊二酰氯为原料，经加成、酰胺化和水解反应合成了有机硅双子表面活性剂。考察了n（中间体Ⅱ）∶n（戊二酰氯）、反应时间和反应温度对中间体Ⅲ收率的影响。结果表明，较佳工艺条件为：n（中间体Ⅱ）∶n（戊二酰氯）=2.1∶1.0，反应时间6 h，反应温度35℃，中间体Ⅲ收率83.29%。25℃时，有机硅双子表面活性剂的表面张力为26.94 mN/m，临界胶束浓度为5.0×10-4 mol/L，起泡性能较低。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王丽艳	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	90	185	7.0	8.0
2	邢凤兰	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	59	378	11.0	16.0
3	孙小龙	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	4	10	2.0	3.0
4	王玉萍	齐齐哈尔大学化学与化学工程学院	5	5	2.0	2.0