单晶硅微结构表面的制备及其减反射性能

• 作者: 方俊飞 杨金峰
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 微结构表面 聚苯乙烯胶体晶体 反应离子刻蚀 等离子体刻蚀 减反射
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 材料与结构
• 页码范围: 582-587
• 分类号: TK514|TN304.12
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2016.09.003

摘要

利用聚苯乙烯胶体微球组装的单层胶体晶体阵列作为掩模板,分别采用反应离子刻蚀和等离子体刻蚀工艺在晶体硅表面构造出不同形态的微纳米结构,并研究不同刻蚀方法和不同刻蚀时间对微结构形态的影响作用.利用分光光度计测试得到微结构表面的反射光谱曲线.结果表明,在0.35～1.1 μm太阳光有效吸收波段,单晶硅材料微结构表面的反射率显著降低,由于此时材料的透射率为零,材料在该波段的吸收得到有效增强.同时,具有规则微结构表面的减反射性能比无序微结构表面的减反射性能要更好一些.这为增强单晶硅对太阳能的有效吸收提供了一种简单可行的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方俊飞	陕西理工大学陕西省工业自动化重点实验室	13	16	2.0	3.0
2	杨金峰	陕西理工大学陕西省工业自动化重点实验室	6	6	1.0	1.0