硅基超疏水跨尺度微纳结构的制备

• 作者: 张德勤 杨超 邹传平 高阳
• 来源期刊: 微纳电子技术
• 学科: 工学
• 关键词: 衍射干涉 理论分析 跨尺度结构 ICP-Bosch工艺 超疏水性能
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 加工、测量与设备
• 页码范围: 616-622
• 分类号: TH703
• 语种: 中文
• DOI: 10.13250/j.cnki.wndz.2016.09.009

摘要

提出了一种可行的制备超疏水跨尺度微纳结构的方法,该方法基于衍射干涉光刻技术,制备出拥有跨尺度的光刻胶结构阵列.建立衍射干涉光刻模型,采用严格耦合波分析(RCWA)方法对衍射干涉形成的光强分布进行理论分析;通过衍射干涉光刻技术制备出跨尺度微纳光刻胶阵列.最后用ICP-Boseh干法刻蚀工艺,将跨尺度光刻胶结构转移到硅基底上,制备出高深宽比硅管状结构,其顶部是跨尺度微纳锥形结构,利用接触角测量仪对制备的样品表面的浸润性能进行了测试,测试结果表明该跨尺度微纳结构达到超疏水性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张德勤	九江学院机械与材料工程学院	36	141	6.0	11.0
2	邹传平	九江学院机械与材料工程学院	11	48	4.0	6.0
3	高阳	九江学院机械与材料工程学院	3	0	0.0	0.0
4	杨超	九江学院机械与材料工程学院	8	6	2.0	2.0