水溶液中痕量Cu2+离子的EDI富集

• 作者: 刘玥 管山 雷航
• 来源期刊: 天津工业大学学报
• 学科: 地球科学
• 关键词: 电去离子(EDL) 富集 Cu离子
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 【染整与化工】
• 页码范围: 42-45
• 页数: 4页
• 分类号: X703.1
• 字数: 2863字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-024x.2016.05.008

摘要

为了快速、连续地测定水溶液中的痕量重金属离子，研究了原水连续、浓水循环的EDI过程，对原水质量浓度为0.01~1 mg/L Cu2+溶液进行了富集.以离子平衡为依据，对进料流量、进料浓度和操作电流等因素对富集倍数的影响和稳定时间进行了考察.结果表明：EDI在工作电流为190 mA、原水流量为60 mL/min的条件下运行，可将Cu2+富集189倍，稳定时间为105 min.通过对实验数据的拟合，得到了原水浓度和浓缩液浓度的对应关系，相关系数为0.9935.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	管山	天津工业大学环境与化学工程学院	21	22	3.0	4.0
2	雷航	天津工业大学环境与化学工程学院	1	0	0.0	0.0
3	刘玥	天津工业大学环境与化学工程学院	2	0	0.0	0.0