目的:探讨对上颌种植体支抗施加不同大小和方向的前牵引力时颅面复合体骨缝处的应力变化。方法:用螺旋 CT扫描安氏Ⅲ类患者颅面部以获取原始二维图像 DICOM数据,建立颅面复合体的三维有限元模型,种植支抗设计在3223间。模拟前牵引力值1~10 N,1 N 递增,方向平行于眶耳平面向前下呈0°~60°,10°递增,两两组合共70种工况。分析各工况下颅面复合体各骨缝处第一主应力及 Von Miese 等效应力分布情况。结果:牵引角度相同力值不同时,各骨缝应力变化规律相同;牵引力值相同角度不同时,不同区间各骨缝应力变化不同。当牵引角度小于30°时,应力变化分析提示上颌体向前生长并向上旋转;等于30°时上颌体出现向前生长;在40°~50°时,上颌体向前生长方向与牵引方向大致相同;大于50°时,上颌体出现向前生长并向下旋转。结论:种植体支抗眶耳平面向前下30°~50°牵引加载力1~10 N 利于上颌体向前生长。