席夫碱修饰的α-氰基二苯乙烯荧光液晶材料的合成与发光性质

• 作者: 张超 杨家祥 檀文 白向阳 陆红波 陈诺 黄建炎
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 化学
• 关键词: 席夫碱 AIEE 发光液晶 偏振发光
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 532-537
• 页数: 6页
• 分类号: O63
• 字数: 2404字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163705.0532

摘要

为获得高效的发光液晶材料,将席夫碱结构单元引入α-氰基二苯乙烯体系,合成了(Z)-2-(4-((E)-4-丁氧基-2-羟基苯乙烯氨基)苯基)-3-(4-丁氧基苯基)丙烯腈( BHPA)。通过紫外-可见吸收光谱和荧光光谱,研究其聚集诱导发光增强( AIEE)性质；利用热重分析( TGA)、差示量热扫描( DSC)、偏光显微镜( POM)研究其热力学性质和液晶性质。结果表明,BHPA是具有AIEE特性的发光液晶材料,取向的BHPA膜具有发光各向异性,其线偏振度约为0.41。