原子层沉积方法制备低温多层Al2 O3/TiO2复合封装薄膜的研究

• 作者: 周忠伟 彭俊彪 徐苗 李民 王磊 邹建华
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: 有机电致发光器件 薄膜封装 原子层沉积 水汽透过率
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 532-539
• 页数: 8页
• 分类号: TN383+.1
• 字数: 4225字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163106.0532

摘要

原子层沉积(ALD)方法可以制备出高质量薄膜，被认为是可应用于柔性有机电致发光器件(OLED)最有发展前景的薄膜封装技术之一.本文采用原子层沉积(ALD)技术，在低温(80℃)下，研究了 Al2 O3及TiO2薄膜的生长规律，通过钙膜水汽透过率(WVTR)、薄膜接触角测试等手段，研究了不同堆叠结构的多层 Al2 O3/TiO2复合封装薄膜的水汽阻隔特性，其中5 nm/5 nm×8 dyads(重复堆叠次数)的Al2 O3/TiO2叠层结构薄膜的WVTR达到2．1×10-5 g/m2/day.采用优化后的 Al2 O3/TiO2叠层结构薄膜对 OLED器件进行封装，实验发现封装后的 OLED 器件在高温高湿条件下展现了较好的寿命特性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭俊彪	华南理工大学材料科学与工程学院	63	524	15.0	20.0
2	邹建华	华南理工大学材料科学与工程学院	7	32	3.0	5.0
3	王磊	华南理工大学材料科学与工程学院	47	335	10.0	16.0
4	徐苗	华南理工大学材料科学与工程学院	8	21	3.0	4.0
5	周忠伟	华南理工大学材料科学与工程学院	3	25	2.0	3.0
9	李民	华南理工大学材料科学与工程学院	2	7	1.0	2.0