酸性氯化铜蚀刻液膜电解再生技术评述

• 作者: 徐海清 胡耀红 袁国伟 赵国鹏 钟洪胜
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 地球科学
• 关键词: 酸性氯化铜蚀刻液 膜电解 再生 离子交换
• 年，卷（期）: 2016,（11）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 590-592
• 页数: 3页
• 分类号: X781.1|TG178
• 语种: 中文

摘要

综述了酸性氯化铜蚀刻液膜电解再生技术的发展现状,分析了当前膜电解再生技术的优缺点,探讨了酸性蚀刻液膜电解再生系统的设计,指出了膜电解再生技术的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵国鹏		5	32	3.0	5.0
2	钟洪胜		2	1	1.0	1.0
3	胡耀红		5	35	3.0	5.0
4	徐海清		6	10	2.0	3.0
5	袁国伟		1	0	0.0	0.0