α、β-并三噻吩衍生物分子的二阶非线性光学性质

• 作者: 李渊
• 来源期刊: 原子与分子物理学报
• 学科: 化学
• 关键词: 二聚并三噻吩 并三噻吩衍生物 密度泛函理论 电子吸收光谱 二阶非线性光学性质
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 原子、分子结构与光谱
• 页码范围: 209-214
• 页数: 6页
• 分类号: O641.12+1
• 字数: 3585字
• 语种: 中文
• DOI: 103969/j.issn.1000-0364.2016.04.004

摘要

采用密度泛函理论B3LYP/6-31+g(d)方法对二聚α、β-并三噻吩衍生物的18个分子(a~j2)进行几何构型优化,对其最优构型采用TD-DFT(TDB3LYP/6-31+g(d))计算电子吸收光谱,用有限场FF方法及自编程序计算二阶非线性光学(NLO)性质.计算结果表明,增加共轭链的含乙烯桥的二聚并三噻吩比不含乙烯桥者,βμ(或β0)大1.6—5.3倍;在含乙烯桥二聚α、β-并三噻吩分子(母体分子)末端引入含C=C或C≡C的基团(如-C≡CH与-C=C(CN)2),比引入强供电子基团(如-N(CH2CH3)2)、单纯吸电子基(如F原子)βμ(或β0)更大;尤其是端接-C=C(CN)2基团的二聚α、β-并三噻吩衍生物,其βμ(或β0)值为104数量级个原子单位(10-29 esu),与母体分子相比βμ增大4.8~19.6倍,更有利于改善体系的二阶非线性光学性质,从而可获得良好的非线性光学材料.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李渊	四川职业技术学院建筑与环境工程系	17	18	2.0	3.0