A向蓝宝石化学机械抛光研究

• 作者: 储向峰 王金普 白林山
• 来源期刊: 金刚石与磨料磨具工程
• 学科: 工学
• 关键词: A向蓝宝石 化学机械抛光 氟化铵 材料去除速率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 页码范围: 43-49
• 分类号: TG58
• 语种: 中文
• DOI: 10.13394/j.cnki.jgszz.2016.3.0009

摘要

以纳米氧化铝为磨料对A向蓝宝石进行化学机械抛光,实验中考察了磨料浓度、磨料粒径、抛光时间、抛光压力以及NH4F浓度等因素对A向蓝宝石的材料去除速率和表面粗糙度的影响.利用原子力显微镜(AFM)检测抛光后A向蓝宝石的表面粗糙度,系统分析抛光过程中各影响因素,优化实验条件,结果表明:当抛光液中磨料质量分数为1％、磨料粒度尺寸为50 nm、抛光时间为40 min、抛光压力为16.39 kPa、NH4F质量分数为0.6％、pH=4.0时,抛光后材料去除速率(MRR)为18.2 nm/min,表面粗糙度值Ra22.3 nm,抛光效果最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	储向峰	安徽工业大学化学与化工学院	59	209	6.0	11.0
2	白林山	安徽工业大学化学与化工学院	60	293	10.0	14.0
3	王金普	安徽工业大学化学与化工学院	5	21	4.0	4.0