脉冲偏压磁过滤电弧离子沉积(Ti,Al)N薄膜的研究

• 作者: 张春宇 王宇 范喜迎 邬岩 金瑞 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 电弧离子镀 (Ti,Al)N薄膜 脉冲偏压 磁过滤技术 结构与力学性能
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 21-24
• 分类号: TB43|O484.2
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.02.06

摘要

利用脉冲偏压磁过滤电弧离子沉积技术在不同负偏压下制备了(Ti,Al)N薄膜,通过扫描电子显微镜、XP-2台阶仪、纳米压痕仪和X射线衍射仪分别测试分析了脉冲偏压与磁过滤共同的作用对薄膜的微观结构、成份、薄膜厚度、显微硬度和晶体结构的影响规律.实验结果表明,在基体上施加脉冲偏压和在电弧蒸发源上使用磁过滤技术,可改善所制备薄膜的组织结构、提高其综合力学性能.通过对在不同负偏压下所制备的样品的综合力学性能的测试分析可得出:在负偏压为200V时制备的样品综合力学性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金瑞	天津师范大学物理与材料科学学院	3	4	1.0	2.0
2	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
3	王宇	天津师范大学物理与材料科学学院	15	33	3.0	5.0
4	邬岩	天津师范大学物理与材料科学学院	1	1	1.0	1.0
5	张春宇	天津师范大学物理与材料科学学院	1	1	1.0	1.0
6	范喜迎	天津师范大学物理与材料科学学院	3	19	2.0	3.0