射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性

• 作者: 刘丹丹 史成武 李学留 李琳 梁齐
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: SnS薄膜 射频磁控溅射 快速退火 晶体结构 光学特性
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: ?器件制备及器件物理?
• 页码范围: 1114-1123
• 页数: 10页
• 分类号: TN304|O484
• 字数: 5167字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163709.1114

摘要

利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积SnS薄膜并对其进行快速退火处理，利用X射线衍射( XRD)、拉曼光谱( Raman)、X射线能量色散谱( EDS)、原子力显微镜( AFM)和紫外-可见-近红外( UV-Vis-NIR)分光光度计研究了不同溅射功率(60~120 W)条件下制备的SnS薄膜的晶体结构、物相组成、化学组分、表面形貌以及有关光学特性。结果表明：经快速退火的薄膜均已结晶，提高溅射功率有利于改善薄膜的结晶质量、生长择优取向程度和化学配比，薄膜的平均颗粒尺寸呈增大趋势；溅射功率为100 W的薄膜样品的结晶质量和择优取向度高，薄膜应变最小，且为纯相SnS薄膜，Sn/S组分的量比为1∶1.09，吸收系数达105 cm-1量级，直接禁带宽度为1.54 eV。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	史成武	合肥工业大学化学与化工学院	43	476	11.0	20.0
2	梁齐	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	47	197	7.0	10.0
3	李琳	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	41	313	11.0	15.0
4	李学留	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	6	23	3.0	4.0
5	刘丹丹	合肥工业大学电子科学与应用物理学院	9	22	3.0	4.0