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摘要:
硅片显影设备可以对硅片表面已曝光的光刻胶完成显影腐蚀及清洗处理,但是国内的显影设备大多自动化程度低,难以精确控制显影参数,显影工艺稳定性得不到保证.本文通过对现有设备关键部件的研究论证,设计了一款全自动硅片腐蚀显影设备,提高了显影参数的控制精度,保证了显影工艺稳定性,在实际生产应用中取得了良好的效果.
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内容分析
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关键词热度
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文献信息
篇名 全自动硅片显影设备的研究
来源期刊 山西电子技术 学科 工学
关键词 硅片 腐蚀显影 清洗 全自动
年,卷(期) 2016,(3) 所属期刊栏目 研究与探讨
研究方向 页码范围 83-85
页数 3页 分类号 TN305.97
字数 2641字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王玉 中国电子科技集团公司第二研究所 6 6 2.0 2.0
2 郭帝江 中国电子科技集团公司第二研究所 5 6 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
硅片
腐蚀显影
清洗
全自动
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
山西电子技术
双月刊
1674-4578
14-1214/TN
大16开
山西省太原市平阳路173号
1973
chi
出版文献量(篇)
4068
总下载数(次)
13
总被引数(次)
10437
论文1v1指导