WILEY化学气相沉积（CVD）聚合物有机物表面改性和有机电子器件的制备

• 作者: 彭金平
• 来源期刊: 国外科技新书评介
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学气相沉积 有机电子器件 表面改性 制备 有机物 聚合物 半导体工业 CVD法
• 年，卷（期）: gwkjxspj_2016,（3）
• 页码范围: 14-15
• 页数: 2页
• 分类号: O484.1

摘要

化学气相沉积（CVD，ChemicalVaporDeposition）是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。CVD法是传统制备薄膜的技术，其原理是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解，

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	彭金平		26	5	1.0	2.0