优质高稳定性微晶硅薄膜的制备

• 作者: 尹训昌 张杰 易明芳 祝祖送 闻军
• 来源期刊: 四川大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶硅薄膜 光照稳定性 均匀性 PECVD
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 157-162
• 页数: 6页
• 分类号: O433
• 字数: 3051字
• 语种: 中文
• DOI: 103969/j.issn.0490-6756.2016.01.026

摘要

对以SiCl4和H2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在低温快速沉积优质高稳定性的微晶硅薄膜进行了研究.在低于250℃下,成功制备出了沉积速率高达0.28nm/s、晶化度达80％以上的微晶硅薄膜.通过光照实验,表明该微晶硅薄膜光致电导率基本保持恒定;通过对气流分布进行调节,微晶硅薄膜的均匀性得到明显改善,均匀度高达95％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张杰	安庆师范学院物理与电气工程学院	61	188	7.0	11.0
2	尹训昌	安庆师范学院物理与电气工程学院	40	20	2.0	3.0
3	祝祖送	安庆师范学院物理与电气工程学院	28	28	3.0	3.0
4	易明芳	安庆师范学院物理与电气工程学院	22	64	5.0	6.0
5	闻军	安庆师范学院物理与电气工程学院	13	9	2.0	2.0