石墨烯场效应管制备的关键工艺研究

• 作者: 冉秦翠 卢斌 蒲利春
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 石墨烯 图形化 带隙 场效应管 关键工艺 优化研究
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 60-63
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.99
• 字数: 2685字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.05.015

摘要

近年来，石墨烯因其独特的物理化学性质备受关注，但石墨烯的零带隙结构，限制了它在光电领域方面的应用。研究了石墨烯场效应管制备的关键工艺，即用石墨烯图形化打开其带隙，并在1 cm×1 cm的石墨烯薄膜上制备出大规模、多尺寸的微结构石墨烯场效应管。通过对石墨烯场效应管关键工艺的优化研究，如石墨烯的无损转移、石墨烯条带的刻蚀、光刻胶的选择、金属蒸镀以及退火等工艺，为石墨烯场效应管的进一步研究提供了可靠的工艺参考。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒲利春	重庆理工大学光电信息学院	21	29	4.0	4.0
2	冉秦翠	重庆理工大学光电信息学院	5	9	2.0	3.0
3	卢斌	河南理工大学电气工程与自动化学院	2	1	1.0	1.0