基于环形磁场励磁的两面磁力抛光试验研究?

• 作者: 尹韶辉 王永强 罗虎 胡天 阮日新 陈逢军
• 来源期刊: 湖南大学学报（自然科学版）
• 关键词: 磁力研磨 环形磁场 两面抛光 磁场仿真
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 【机械工程】
• 页码范围: 31-37
• 页数: 7页
• 分类号: TH161
• 语种: 中文

摘要

磁力抛光多数以单面抛光为主，较少有双面同时有效抛光方式.本文提出了基于环形磁场励磁的磁力抛光新工艺，该方法可以同时有效抛光两个表面.通过设计能励磁环形磁场的电磁铁，并进行三维有限元仿真分析，搭建了环形磁场双面抛光装置.利用该平台进行不锈钢两面抛光工艺试验研究，探讨了电流强度、磁极与工件间间隙、主轴转速和抛光时间工艺等参数对表面粗糙度Ra的影响.得出表面粗糙度Ra随着抛光时间、工作间隙、工件转速的增大而减小.设计正交实验方案得出合理的两面磁力抛光工艺参数，并最终取得了具有良好表面粗糙度Ra的两面工件样品.试验证明，该方法可以同时对工件的两个表面进行抛光，两个表面的表面粗糙度Ra由最初0.2μm 下降到Ra(S)=0.094μm 和Ra(N)=0.068μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈逢军	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	43	418	10.0	18.0
2	尹韶辉	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	66	540	12.0	20.0
3	王永强	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	6	43	3.0	6.0
4	胡天		5	37	3.0	5.0
5	罗虎	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	3	27	3.0	3.0
6	阮日新	湖南大学国家高效磨削工程技术研究中心	1	5	1.0	1.0