多弧离子镀制备TiN/TiAlN多层薄膜性能研究

• 作者: 丁龙先 张弛 马丽华
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 TiN/TiAlN多层薄膜 性能
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 页码范围: 66-69
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 2073字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.06.17

摘要

采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为60A、70A、80A 和基体偏压分别为-240V、-300V、-360V在高速钢基体上制备 TiN/TiAlN 多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热震性能进行检测。结果表明：在钛靶电流为70A和基体偏压为-240V时膜基结合力最高，同时显微硬度也较高；在基体偏压为-300V的条件下，钛靶电流为70A时的摩擦系数最小，其耐磨性能良好；基体偏压为-240V时的抗热震性能良好。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁龙先	沈阳大学机械工程学院	12	37	4.0	5.0
2	马丽华	沈阳大学机械工程学院	1	0	0.0	0.0
3	张弛		2	4	1.0	2.0