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Nd2O3掺杂对YIG铁氧体微观结构及磁性能的影响
Nd2O3掺杂对YIG铁氧体微观结构及磁性能的影响
作者:
秦会斌
邓江峡
郑梁
郑鹏
高建强
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
YIG铁氧体
烧结温度
微观结构
Nd2O3
掺杂量
饱和磁化强度
摘要:
采用固相反应烧结法制备了铁氧体材料Y3-xNdxFe5O12(0≤x≤2),研究了不同烧结温度和Nd3+掺杂量对样品微观结构和磁性能的影响。发现在Nd3+掺杂量相同的情况下,样品密度随烧结温度的升高而升高,最终在1340℃接近饱和;晶格常数随着Nd3+掺杂量的增加而增大,当x>1.5时,样品出现杂相;饱和磁化强度随着Nd3+掺杂量的增加先增大后减小,x=1时,样品的饱和磁化强度达到最大值31.9 A·m2·kg–1。
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文献信息
篇名
Nd2O3掺杂对YIG铁氧体微观结构及磁性能的影响
来源期刊
电子元件与材料
学科
工学
关键词
YIG铁氧体
烧结温度
微观结构
Nd2O3
掺杂量
饱和磁化强度
年,卷(期)
2016,(5)
所属期刊栏目
研究与试制
研究方向
页码范围
40-43
页数
4页
分类号
TM277
字数
3321字
语种
中文
DOI
10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.05.010
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
秦会斌
杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所
237
1329
17.0
25.0
2
郑梁
杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所
35
114
5.0
9.0
3
郑鹏
杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所
15
85
3.0
9.0
4
邓江峡
杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所
4
5
2.0
2.0
5
高建强
杭州电子科技大学新型电子器件与应用研究所
1
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研究主题发展历程
节点文献
YIG铁氧体
烧结温度
微观结构
Nd2O3
掺杂量
饱和磁化强度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子元件与材料
主办单位:
中国电子学会
中国电子元件行业协会
国营第715厂(成都宏明电子股份有限公司)
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-2028
CN:
51-1241/TN
开本:
大16开
出版地:
成都市一环路东二段8号宏明商厦702室
邮发代号:
62-36
创刊时间:
1982
语种:
chi
出版文献量(篇)
5158
总下载数(次)
16
总被引数(次)
31758
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