反应离子束刻蚀石英同质掩模制作小阶梯光栅

• 作者: 付绍军 董圣为 邱克强
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 小阶梯光栅 反应离子束刻蚀 闪耀角 衍射效率
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 页码范围: 54-58
• 页数: 5页
• 分类号: TB741|TB79
• 字数: 2964字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2016.06.14

摘要

离子束刻蚀作为真空技术的一种重要应用，已广泛运用于现代微电子器件和微光学器件的制作工艺中。本文结合反应离子束刻蚀与全息光刻技术，针对线密度较低的小阶梯光栅，倾斜刻蚀石英同质掩模，制作了三种在紫外光和可见光波段透射闪耀的小阶梯光栅。第一种光栅线密度为360lp/mm ，闪耀角16.8°，在325nm波长的透射衍射效率为74%；第二种和第三种光栅线密度均为400lp/mm ，闪耀角为34.7°和43°，其在632.8nm 波长的透射衍射效率分别为63%和57%。结果表明，使用 CHF3作为刻蚀气体的反应离子束刻蚀石英同质掩模，所制作的小阶梯光栅在其工作波段透射闪耀的衍射效率为理论值的75%以上，为全息离子束制作低线密度大闪耀角的光栅提供参考。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
2	邱克强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	25	135	6.0	10.0
3	董圣为	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	1	2	1.0	1.0