LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化

• 作者: 叶芸 周秀峰 彭涛 文亮 郭太良 陈丽雯
• 来源期刊: 液晶与显示
• 学科: 工学
• 关键词: LTPS TFT LCD 干法刻蚀 湿法刻蚀 层间绝缘层过孔 接触电阻 器件性能
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 363-369
• 页数: 7页
• 分类号: TN43
• 字数: 2954字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/YJYXS20163104.0363

摘要

为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化.实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面.实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73％以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90％,器件开态电流提升约15％.干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭太良	福州大学物理与信息工程学院	302	1102	15.0	21.0
2	叶芸	福州大学物理与信息工程学院	47	123	5.0	8.0
3	陈丽雯	福州大学物理与信息工程学院	3	4	1.0	2.0
4	彭涛		1	0	0.0	0.0
5	周秀峰		1	0	0.0	0.0
6	文亮		1	0	0.0	0.0