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摘要:
分别对p-i-n和n-i-p两种结构的硅基光电探测器的背面离子注入层进行激光退火处理,辐照功率分别为0.5、1、1.25和1.5 J/cm2.根据激光退火激活载流子模式计算了载流子激活率,获得了载流子浓度和接触电阻的变化量.通过对比器件的电学和光学性能,发现采用1.5 J/cm2的激光,离子注入方式得到的硼离子和磷离子的激活率达到75.0%和92.6%,使得p-i-n和n-i-p结构器件的背接触电阻分别从未退火的22.3 Ω和15.89 Ω降低至7.32Ω和7.63 Ω,显著改善了硅基光电探测器的正向特性.在100 mV反向偏压下激光退火至少降低了10%的暗电流,并增强p-i-n结构峰值处约1%的光谱响应和n-i-p结构峰值处约5%的光谱响应.
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文献信息
篇名 激光退火在硅基光电探测器中的应用
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 激光退火 载流子激活 探测器 欧姆接触
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 36-40,49
页数 分类号 TN249
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 郭霞 北京工业大学光电子器件研究室 54 397 11.0 16.0
2 王文娟 北京工业大学光电子器件研究室 18 72 4.0 8.0
3 李冲 北京工业大学光电子器件研究室 5 7 2.0 2.0
4 刘巧莉 北京工业大学光电子器件研究室 4 5 2.0 2.0
5 周弘毅 北京工业大学光电子器件研究室 4 22 3.0 4.0
6 董建 北京工业大学光电子器件研究室 3 7 2.0 2.0
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节点文献
激光退火
载流子激活
探测器
欧姆接触
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
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