激光频率对激光溅射法制备多晶硅薄膜压阻特性的研究

• 作者: 付传起 王宙 王思源 雍帆 骆旭梁
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光溅射 激光频率 多晶硅薄膜 应变系数 晶粒尺寸
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 534-537
• 分类号: TQ174
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.05.07

摘要

采用脉冲激光溅射法制备硼掺杂多晶硅薄膜,研究了不同频率下多晶硅薄膜的晶粒尺寸以及压阻性能.用扫描电子显微镜表征在不同的激光频率沉积的多晶硅薄膜的表面形貌,以及悬臂梁实验测定在不同的激光频率下沉积的多晶硅薄膜的应变系数.结果表明溅射频率对激光溅射法制备的硼掺杂多晶硅薄膜的晶粒尺寸和压阻性能都有着明显的影响,当频率为3 Hz时多晶硅薄膜的晶粒尺寸较大,约为35～65 μm,并且多晶硅薄膜有着良好的压阻性能,其应变系数为36.8,电阻的温度系数为-0.036％/℃,应变系数的温度系数为-0.09％/℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付传起	大连大学表面工程中心	34	129	7.0	9.0
2	王宙	大连大学表面工程中心	41	226	10.0	12.0
3	骆旭梁	大连大学表面工程中心	5	14	3.0	3.0
4	王思源	大连大学表面工程中心	6	4	1.0	2.0
5	雍帆	大连大学表面工程中心	5	15	3.0	3.0