基于紫外臭氧光照技术的PDMS表面改性参数研究

• 作者: 崔建国 张雅雅
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 表面改性 紫外臭氧光照 聚二甲基硅氧烷 键合强度 最优工艺参数
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 表面强化及功能化 Surface Strengthening and Functionalization
• 页码范围: 89-95
• 页数: 7页
• 分类号: TQ31|TB34
• 字数: 4096字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.03.015

摘要

目的：聚二甲基硅氧烷( PDMS)作为微流控芯片研制中常用的高分子材料，其本身的疏水特性是影响微流控芯片整体键合效果的主要障碍。为了在短时间内成功实现PDMS与基底材料的有效键合与封装，设计一种可在普通实验室开展的低成本且高效的PDMS材料改性方法。方法基于紫外臭氧光照改性法对PDMS材料表面进行改性研究，通过正交试验深入研究紫外光照射时间、距离及通氧时间对PDMS表面改性效果的影响，并在50℃水浴环境下通过测量不同时间PDMS基片与盖片( PDMS或玻璃)的键合强度，从而确定最优工艺参数组合。结果相比于传统紫外光照射表面改性法的键合时间(大于50 h)，本工艺可在6 h内成功实现PDMS的有效封装，并确定了P—P键合和P—G键合的最优参数组合，两者平均键合强度均大于200 kPa。结论整个工艺操作简单、成本低，可作为普通实验室开展微流控实验研究的有益补充。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔建国	重庆理工大学药学与生物工程学院	29	107	6.0	8.0
2	张雅雅	重庆理工大学药学与生物工程学院	5	30	4.0	5.0