反应溅射法制备高透明导电ZnO薄膜的研究

• 作者: 吴隽 张俊峰 杨玉婷 祝柏林 谢挺 龙晓阳
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: Zn/ZnO复合靶 反应溅射 气体流量 ZnO薄膜 结晶度 透明导电性
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 页码范围: 711-717
• 页数: 7页
• 分类号: TN304
• 字数: 5650字
• 语种: 中文

摘要

利用Zn/ZnO复合靶材,通过射频磁控溅射技术,在衬底温度为150℃时分别在Ar+O2和Ar+H2的混合气氛中制备ZnO薄膜,通过干涉显微镜、XRD、Hall效应测试仪、紫外-可见分光光度计研究了O2和H2流量对薄膜结构及透明导电性能的影响.结果发现,薄膜厚度随O2流量增加而明显增加而随H2流量增加呈下降趋势.只有通入合适流量的O2或H2,薄膜才能保持(002)择优取向、较高的结晶度以及较小的压应力,同时在薄膜中形成高浓度Vo和/或Hi等缺陷,因此有效降低ZnO薄膜的电阻率,并保持高的透光率,从而改善ZnO薄膜透明导电性能.当前研究中,当O2和H2流量分别为0.4 sccm和2.0 sccm时,得到的最低电阻率分别为6.33×10-3和2.51×10-3Ω·cm,平均透光率均大约为81.5％,相应的最高品质因子分别为1.04×10-3和1.29×10-3 Ω-1.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴隽		18	27	3.0	4.0
2	祝柏林	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	7	187	6.0	7.0
6	张俊峰	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	4	62	2.0	4.0
7	龙晓阳	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	4	4	2.0	2.0
8	谢挺	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	2	2	1.0	1.0
9	杨玉婷	武汉科技大学省部共建耐火材料与冶金国家重点实验室	1	2	1.0	1.0