小分子物质的MALDI分析及质谱成像研究进展

• 作者: 何清 刘会会 孙洁 熊彩侨 聂宗秀 薛晋娟 陈素明
• 来源期刊: 中国科学（化学）
• 关键词: 小分子化合物 基质辅助激光解吸电离质谱 质谱成像
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 专题论述
• 页码范围: 1119-1125
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/N032016-00088

摘要

随着基质辅助激光解吸电离质谱(MALDI-MS)的广泛应用,其对小分子物质(LMW compounds)的分析已经成为此领域的一个重要研究方向.由于传统的小分子基质在分析小分子化合物时会在低分子量区域(m/z＜ 1000)产生干扰及抑制效应,使MALDI-MS在分析小分子时效果欠佳.为了解决这一问题,许多手段包括低背景的新基质开发以及分析物的衍生化等被提出.本文系统综述了基质辅助激光解吸电离质谱在小分子分析及成像中的方法及应用,并展望了其未来的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙洁	中国科学院化学研究所	8	9	1.0	2.0
2	何清	中国科学院化学研究所	30	782	13.0	27.0
3	聂宗秀	中国科学院化学研究所	4	3	1.0	1.0
4	陈素明	中国科学院化学研究所	3	1	1.0	1.0
5	薛晋娟	中国科学院化学研究所	1	0	0.0	0.0
6	熊彩侨	中国科学院化学研究所	3	3	1.0	1.0
7	刘会会	中国科学院化学研究所	1	0	0.0	0.0