化学腐蚀法制备荧光多孔硅及对Ag+的检测

• 作者: 尤超 熊小莉 纪煜垚 肖丹 薛康
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学腐蚀法 多孔硅 荧光 Ag+
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 材料合成及性能
• 页码范围: 662-668
• 页数: 7页
• 分类号: O482.31
• 字数: 3320字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163706.0662

摘要

采用简便的化学腐蚀法在45℃下制备了橘红色荧光多孔硅( PS),通过扫描电镜( SEM)、红外光谱(FT-IR)和比表面积(BET)对PS的结构进行了表征。研究发现,Ag+能在PS上发生氧化沉积而猝灭荧光。基于此,建立了一种快速、灵敏检测Ag+的新方法。在优化实验条件下,Ag+浓度与PS的荧光强度在4.5×10-8~6.6×10-7 mol／L范围内呈良好的线性关系,检测限为2.2×10-8 mol／L,线性相关系数为0.9914。该方法用于水样中Ag+的检测,结果满意。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	肖丹	四川大学化学学院	89	534	11.0	19.0
2	熊小莉	四川师范大学化学学院	13	28	4.0	4.0
3	薛康	四川师范大学化学学院	4	8	2.0	2.0
4	尤超	四川师范大学化学学院	3	6	1.0	2.0
5	纪煜垚	四川师范大学化学学院	1	1	1.0	1.0