低温氧等离子体处理对单层石墨烯微观结构影响的研究

• 作者: 王权 邓海君
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 化学
• 关键词: 低温氧等离子体 化学气相沉积 石墨烯 拉曼光谱 XPS 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 9-13
• 页数: 5页
• 分类号: O613.71
• 字数: 3756字
• 语种: 中文
• DOI: 10.14106/j.cnki.1001-2028.2016.02.003

摘要

运用低温氧等离子体对化学气相沉积法生长的单层石墨烯进行处理,通过拉曼光谱仪和X射线光电子能谱仪来表征处理前后的变化,重点探讨了低温氧等离子体处理对单层石墨烯微观结构的影响.在拉曼光谱中,处理后的石墨烯出现了明显的D峰和D峰,同时G峰和2D峰也出现了明显的退化,而G峰峰位右移,2D峰峰位左移.通过X射线光电子能谱表征,表明处理后向石墨烯中引入了较多的官能团.利用原子力显微镜研究了处理前后SiO2/Si基底上石墨烯的表面形貌,发现低温氧等离子体处理后石墨烯表面高度明显增加,同时褶皱减少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王权	江苏大学机械工程学院	31	183	8.0	11.0
5	邓海君	江苏大学机械工程学院	1	5	1.0	1.0