全自动制样-X射线荧光光谱法测定硅铁中硅

• 作者: 任娟玲 张东雯 李康 杨蒙
• 来源期刊: 冶金分析
• 关键词: 全自动制样 X射线荧光光谱法 助磨剂 硅铁 硅
• 年，卷（期）: 2016,（8）
• 页码范围: 25-29
• 页数: 5页
• 字数: 3215字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13228/j.boyuan.issn1000-7571.009853

摘要

采用全自动制样,建立了X射线荧光光谱法(XRF)快速测定硅铁中硅的方法.通过对比X-ray专用助磨剂、进口助磨剂、微晶纤维素、硬脂酸等几种助磨剂在制作硅铁压片时的使用效果,确定使用X-ray专用助磨剂作为硅铁压片添加剂,样品与助磨剂的添加比例为9∶1(质量比);全自动制样机制备硅铁压片时,样品初始粒度要求过160目筛网(孔径96 μm)、研磨时间为130 s、压力为35 t、保压时间为20s.用上述方法可以得到结构均匀致密、外表平整光滑的硅铁压片.采用不同时期的多个生产样合并为一个管理样,与购买的硅铁标样配制校准曲线标样,校准曲线硅含量范围能够满足测定要求,并有效消除矿物效应对测定的影响.采用实验方法测定硅铁中硅,分析结果同SN/T 1014.1-2001的氟硅酸钾滴定法相吻合,相对标准偏差(RSD,n=11)小于0.2％.