溅射工艺参数对TiAlSiN涂层硬度及膜基结合力的影响

• 作者: 刘红涛 朱鹏志 李刘合 许亿 马全胜 马璇
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlSiN涂层 磁控溅射 溅射工艺参数 膜基结合力
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 结构薄膜
• 页码范围: 146-153
• 分类号: TB43|TG711
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.02.05

摘要

近年来超硬涂层的出现,为高速切削、干式切削的高质量刀具的发展,提供了契机.本文开展了磁控溅射法制备TiAlSiN涂层的工艺研究,在不同工艺下,获得了厚度2.0 ～4.0 μm的TiAlSiN涂层,运用纳米压入硬度测试仪、划痕仪和洛氏硬度计等对涂层性能进行表征,研究了制备工艺参数对涂层硬度、膜基结合力的影响规律.结果表明:随着氮氩比、沉积温度和基体负偏压的增大,纳米硬度和弹性模量都是先升高后降低.靶基距为8 cm、温度为100℃、氮氩比为1/3、靶电流为1.5A、基体负偏压为-100 V时涂层的平均纳米硬度超过40 GPa,达到了超硬水平;涂层与高速钢基体的膜基结合力随着靶基距的加大而降低,随着磁控电流的增大而增大;在沉积温度和基体负偏压由低到高变化时,涂层结合力变化趋势一致,都是先升高后降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱鹏志		1	8	1.0	1.0