AlON/TiAlOND/TiAlONM/Cu光谱选择性吸收涂层高温真空稳定性研究

• 作者: 刘晓鹏 杜淼 董亚斌 郝雷
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 选择性吸收涂层 热稳定性 晶化 元素扩散 激活能
• 年，卷（期）: 2016,（9）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 896-901
• 分类号: TK519|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY15031903

摘要

利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、透射电镜(TEM)和俄歇电子能谱仪(AES)研究了AlON/TiAlON o/TiAlONM/Cu选择性吸收涂层高温真空条件下显微形貌、结构与化学成分的变化.结果表明,退火前后选择性吸收涂层的多层膜结构和微观形貌保持稳定.制备态涂层的AlON层和TiAlOND层为非晶结构,TiAlONM层由非晶基体和分散的晶粒组成.550℃高温真空退火24h后,TiAlONM层发生晶化,晶粒长大.退火过程中,O元素从Al0N层扩散至TiAlON双吸收层,而N元素从TiAlON双吸收层扩散至Al0N层,同时膜层界面区域变宽.高温真空处理后涂层的吸收率略有降低,而发射率保持不变.晶化导致TiAlONM层吸光性能下降,以及N和0元素扩散导致最优化结构被破坏是涂层吸收率衰减的主要原因.涂层在真空下热稳定激活能为189.5 kJ·mol-1,表明涂层具有较好的热稳定性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘晓鹏		52	206	7.0	12.0
2	郝雷		13	42	3.0	6.0
3	杜淼		5	4	1.0	1.0
4	董亚斌		1	0	0.0	0.0