下颌平面角影响种植体应力分布的有限元分析

• 作者: 杨适宜 邢维斌 郑淑贤
• 来源期刊: 华西口腔医学杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 下颌平面角 种植体 应力分布 有限元分析
• 年，卷（期）: 2016,（5）
• 所属期刊栏目: 口腔种植学专栏
• 页码范围: 502-505
• 页数: 4页
• 分类号: R783
• 字数: 2811字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7518/hxkq.2016.05.014

摘要

目的 通过在不同下颌平面角角度下对下颌第一磨牙种植体的力学特性进行有限元分析,得出下颌平面角角度对种植体受力的影响规律,为临床种植提供理论参考.方法 采集3种不同下颌平面角(低角、均角、高角)CT数据,建立种植复合体有限元模型,设计正交实验方案,记录数据,分析处理,得出有限元分析结果.结果 最优参数组合为:低角,4.8 mm,Ⅱ型骨.各个因素的主次关系依次为种植体直径、下颌平面角角度、骨密度.结论 下颌平面角角度对种植体的稳固有一定的影响,在同样咬合力的情况下,高角种植体所受应力最大,其次是均角,低角最小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑淑贤	天津大学机械工程学院	10	27	3.0	5.0
2	邢维斌	天津市公安医院口腔科	9	17	3.0	4.0
3	杨适宜	天津市公安医院口腔科	2	2	1.0	1.0