微米金刚石薄膜的制备与场发射研究

• 作者: 张兵临 张武勤 李桢 高金海
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 工学
• 关键词: 微米金刚石薄膜 场致电子发射 发射点密度 微波等离子体化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2016,（1）
• 所属期刊栏目: 固态电子器件及材料
• 页码范围: 12-15
• 页数: 4页
• 分类号: TB383|O484
• 字数: 3716字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2016.01.003

摘要

利用微波等离子体化学气相沉积（MPCVD）法，在镀金属钛层的陶瓷基底上面，调整优化沉积参数，制备出了碳膜。通过各种仪器分析了碳膜的内部结构和表面形貌，证明该碳膜是微米金刚石薄膜。进一步将微米金刚石薄膜作为场发射阴极材料，测试了其场致电子发射特性。稳定发射状态下的开启电场为1.15 V/μm，在3.35 V/μm的电场下，其场发射电流密度为0.81 mA/cm2，发射点密度约为104/cm2。并对其发射机理进行了研究。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张兵临	郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室	95	608	12.0	18.0
2	李桢	郑州师范学院物理系	28	28	3.0	4.0
3	高金海	郑州师范学院物理系	22	25	3.0	4.0
4	张武勤	郑州师范学院物理系	25	50	5.0	5.0