二阶关联成像系统宽光谱吸收膜研制

• 作者: 付秀华 刘冬梅 张静 熊仕富 程慧婷
• 来源期刊: 光子学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 关联成像 阶梯式退火 逆向反演 内应力 吸收膜
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 167-172
• 分类号: O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/gzxb20164510.1031001

摘要

为满足关联成像系统抑制背景的需求,选用Al、Cr和SiO2作为镀膜材料,依据薄膜吸收理论,结合膜系设计软件设计了宽光谱吸收膜,并采用真空沉积技术获得了该薄膜样品.通过真空阶梯式退火,减小了膜层内应力,解决了薄膜牢固度问题;采用交互式分析对测试结果逆向反演,通过优化工艺参量,使膜系中敏感薄层厚度得以精准控制,并减小了膜厚控制误差.制备的吸收膜在400～1 100 nm波段平均吸收率达到99.1％,满足系统使用要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	付秀华	长春理工大学光电工程学院	141	525	11.0	15.0
2	张静	长春理工大学光电工程学院	67	132	6.0	8.0
3	刘冬梅	长春理工大学光电工程学院	49	107	5.0	8.0
4	熊仕富	长春理工大学光电工程学院	17	35	4.0	5.0
5	程慧婷	长春理工大学光电工程学院	1	5	1.0	1.0