原子层沉积AlOx薄膜对单晶硅太阳能电池钝化机制的影响

• 作者: 刘爱民 张炳烨 方铉 谢洪丽
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氧化铝 原子层沉积 钝化 准稳态光电导
• 年，卷（期）: 2016,（2）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 192-196
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4|TP394.1
• 字数: 3455字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163702.0192

摘要

采用原子层沉积设备在p型单晶制绒硅上制备了不同厚度的AlOx薄膜.通过研究AlOx薄膜厚度对样品的反射率、少数载流子寿命以及电容-电压特性的影响,发现沉积32 nm的AlOx薄膜样品具有最好的钝化效果.另外,通过计算Si/AlOx界面处的固定电荷密度和缺陷态密度,发现32 nm厚的AlOx薄膜样品具有最低的缺陷态密度.系统研究了单晶硅材料的表面钝化机制,给出了影响样品载流子寿命的根本来源.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘爱民	大连理工大学物理与光电工程学院	7	43	4.0	6.0
2	方铉	长春理工大学理学院	37	60	4.0	6.0
3	张炳烨	大连理工大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0
4	谢洪丽	大连理工大学物理与光电工程学院	1	2	1.0	1.0