共溅射V-Zr合金薄膜:化合物、微结构和硬度

• 作者: 孙士阳 尚海龙 李戈扬 石恺成 齐进艳
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: V-Zr合金 薄膜 微结构 硬度 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 功能薄膜
• 页码范围: 795-799
• 分类号: O484.1|TG174.444|TG146.4+13
• 语种: 中文
• DOI: 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.07.13

摘要

为了揭示合金薄膜中金属间化合物对薄膜微结构和力学性能的影响,通过双靶磁控共溅射方法制备了一系列不同Zr含量的V-Zr合金薄膜,采用能量分散谱、X射线衍射、透射电镜和纳米力学探针研究了薄膜微结构和硬度随Zr含量的变化.研究结果表明:由于溅射薄膜生长的高非平衡性,Zr原子可以过饱和地固溶于V的晶格中,并造成晶格的畸变,使薄膜的晶粒在低的Zr含量下就成为纳米晶,随着Zr含量的增加,薄膜形成由V和V2Zr组成的非晶结构,并且逐步转变为主要由V2Zr化合物组成的非晶.与微结构的变化相对应,薄膜的硬度在低Zr含量时因过饱和固溶和晶粒的纳米化迅速提高,而形成非晶结构后则因V2Zr的逐步增加而维持在高值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
2	尚海龙	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	53	4.0	6.0
6	石恺成	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	3	12	2.0	3.0
7	孙士阳	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	8	16	3.0	3.0
8	齐进艳	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	1	1	1.0	1.0