镁锂合金腐蚀行为及干法镀膜防护工艺研究

• 作者: 丁雪峰 何燕霖 姚彦 宋振纶 杨丽景 鞠鹏飞
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 镁锂合金 腐蚀行为 PVD 纯铝膜 组织形貌
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 所属期刊栏目: 镁合金的腐蚀与表面处理新技术
• 页码范围: 56-61
• 分类号: TG174
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2016.12.009

摘要

目的 利用PVD磁控溅射技术,在样品上沉积纯铝膜,以提高镁锂合金的耐腐蚀性能.方法 采用动态极化曲线、交流阻抗方法研究镁锂合金在去离子水和3.5％NaCl溶液两种介质中的电化学行为,并利用感应耦合等离子体发射光谱仪技术和荧光金相显微镜,分别测定合金的成分,分析微观组织结构.采用扫描电子显微镜和EDS能谱仪分析镁锂合金纯铝膜的组织形貌与结构成分.此外,采用电化学技术测试纯铝膜的保护行为.结果 在3.5％NaCl溶液中,镁锂合金的腐蚀电流密度比去离子水介质中的高约两个数量级,且腐蚀电位较负;交流阻抗结果显示,比去离子水中的阻抗模值低一个数量级,说明镁锂合金抗Cl-侵蚀的能力较差.通过磁控溅射技术,获得了厚度为4 μm致密的纯铝膜.镀铝后,镁锂合金的腐蚀电流密度降低了约一个数量级,腐蚀电位正移,耐蚀性提高.结论 致密的纯铝膜在3.5％NaCl溶液介质中容易发生钝化,阻碍Cl-的扩散,进而提高了镁锂合金耐Cl-侵蚀性.