CrAlN/TiAlN纳米多层膜界面结构的中子与X射线反射研究

• 作者: 吴二冬 张罡 李新喜 杜晓明 王敏鹏 王燕 黄朝强
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 中子反射 CrAlN/TiAlN多层膜 界面结构
• 年，卷（期）: 2016,（6）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 1112-1117
• 页数: 6页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2016.50.06.1112

摘要

采用反应磁控溅射技术在单晶硅基片上制备了CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜,利用非极化中子和X射线反射对膜层厚度、膜层界面粗糙度、界面扩散等表面、界面结构和性质进行了系统研究.中子反射测得的CrN纳米单层膜和CrAlN/TiAlN纳米周期膜的厚度与设计厚度的差别为3.8%~4.2%.散射长度密度(SLD)分析结果表明,膜层间和膜层与基底间界面较为清晰,扩散较少.X射线反射测得的膜层厚度较中子反射测得的膜层厚度偏高,对于较小调制周期的多层膜,界面弥散会对X射线反射结果产生较大误差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李新喜	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	26	50	4.0	5.0
2	张罡	沈阳理工大学材料科学与工程学院	104	425	11.0	13.0
3	黄朝强	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	36	52	4.0	5.0
4	吴二冬	中国科学院金属研究所	4	14	2.0	3.0
5	王燕	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	23	28	3.0	4.0
6	杜晓明	沈阳理工大学材料科学与工程学院	36	179	8.0	11.0
7	王敏鹏	沈阳理工大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0