粉末靶射频磁控溅射非晶Al2O3薄膜的制备与性能研究

• 作者: 丁梧桐 吴法宇 周艳文 李建伟 樊子铭 齐羿
• 来源期刊: 金属学报
• 学科: 工学
• 关键词: 非晶Al2O3薄膜 射频磁控溅射 光学性能 抗菌特性
• 年，卷（期）: 2016,（12）
• 页码范围: 1595-1600
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文
• DOI: 10.11900/0412.1961.2016.00139

摘要

采用粉末靶射频磁控溅射方法制备非晶Al2O3薄膜,分析了溅射工艺参数对Al2O3薄膜微观结构、表面形貌、光学性能的影响规律及机理,并探究其抗菌特性.研究结果表明:增加氧通量、降低溅射功率和缩短溅射时间均会减小非晶Al2O3薄膜颗粒度与粗糙度,同时也降低薄膜的沉积速率;并且,氧通量的增加和溅射时间的缩短均会使非晶Al2O3薄膜禁带宽度变宽(最大值可达4.21 eV)、透光率增大(超过90％);光照条件下非晶Al2O3薄膜24 h抗菌率最高可达98.6％,体现出了较好的光催化抗菌性.