射流低温等离子体处理增强环氧表面憎水性研究

• 作者: 方志 杨静 阮陈 陈柬
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 等离子体射流 绝缘材料 表面改性 憎水性 光谱
• 年，卷（期）: 2016,（4）
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TM215|TM201.4+6
• 语种: 中文
• DOI: 10.16790/j.cnki.1009-9239.im.2016.04.009

摘要

为提高绝缘材料表面的憎水性,采用在Ar/SiCl4中产生稳定的大气压等离子体射流放电对典型绝缘材料环氧板表面进行憎水性改性,通过接触角测量、表面能计算以及扫描电子显微镜(SEM)等对改性前后的环氧表面特性进行研究,探索接触角和表面能随处理时间的变化规律,并结合光谱诊断对改性机制进行了分析.结果表明:改性处理后,环氧表面形成一层致密的网状结构,表面引入了含硅基团,表面极性降低,因此表面水接触角增加,表面能降低,憎水性增强.当处理时间为180 s时,环氧表面的憎水性改性效果最好,表面水接触角由46°提高到最大值91°.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	方志	南京工业大学电气工程与控制科学学院	79	835	17.0	23.0
2	陈柬	南京科技职业学院自动控制系	2	3	1.0	1.0
3	杨静	南京工业大学电气工程与控制科学学院	21	127	6.0	11.0
4	阮陈	南京工业大学电气工程与控制科学学院	5	7	2.0	2.0