金刚石锥阵列的无掩膜刻蚀制备及其形貌演变机制

• 作者: 元光 孙鹏 李俊杰 王超 顾长志
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石锥 偏压热灯丝化学气相沉积 等离子体刻蚀
• 年，卷（期）: 2016,（7）
• 所属期刊栏目: 器件制备及器件物理
• 页码范围: 793-797
• 页数: 5页
• 分类号: TN383+.1
• 字数: 2899字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/fgxb20163707.0793

摘要

为获得具有优良场发射性能的金刚石锥阵列,利用偏压热灯丝化学气相沉积系统分别在高质量大颗粒金刚石厚膜与纳米金刚石薄膜上进行了无掩膜刻蚀研究,系统比较了高质量大颗粒金刚石厚膜与纳米金刚石薄膜的刻蚀特性,制备了大面积均匀金刚石锥阵列和高长径比(20∶1)金刚石纳米线阵列,探讨了金刚石锥的刻蚀形成机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙鹏	中国海洋大学信息科学与工程学院物理系	95	468	11.0	15.0
3	王超	中国科学院物理研究所北京凝聚态国家实验室	278	2990	26.0	41.0
4	元光	中国海洋大学信息科学与工程学院物理系	26	100	5.0	9.0
5	顾长志	中国科学院物理研究所北京凝聚态国家实验室	21	86	5.0	8.0
8	李俊杰	中国科学院物理研究所北京凝聚态国家实验室	37	329	7.0	17.0