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霉菌对Ge、ZnS和ZnSe膜层的影响
霉菌对Ge、ZnS和ZnSe膜层的影响
作者:
刘剑
字正华
李大庆
杨玉萍
江学军
赵远荣
钟辉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
Ge
ZnS
ZnSe
增透膜
碳膜
霉菌
摘要:
采取自然环境试验和实验室霉菌试验相结合的方法,研究霉菌对Ge、ZnS和ZnSe镀增透膜和碳膜的影响。通过显微镜和扫描电镜对霉菌试验结果进行观察和检测。试验结果表明:未镀膜的Ge、ZnS 和 ZnSe 材料抗霉能力较强;增透膜和碳膜抗霉能力较弱,容易长霉,其主要长霉原因是增透膜和碳膜为霉菌生长提供了营养成分。
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文献信息
篇名
霉菌对Ge、ZnS和ZnSe膜层的影响
来源期刊
红外技术
学科
工学
关键词
Ge
ZnS
ZnSe
增透膜
碳膜
霉菌
年,卷(期)
2016,(12)
所属期刊栏目
红外光学材料
研究方向
页码范围
1078-1081
页数
4页
分类号
TN213
字数
2334字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
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1
杨玉萍
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字正华
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刘剑
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赵远荣
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江学军
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研究主题发展历程
节点文献
Ge
ZnS
ZnSe
增透膜
碳膜
霉菌
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
主办单位:
昆明物理研究所
中国兵工学会夜视技术专业委员会
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-8891
CN:
53-1053/TN
开本:
大16开
出版地:
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
邮发代号:
64-26
创刊时间:
1979
语种:
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
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