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摘要:
在等离子体刻蚀工艺中,晶圆的温度控制是关键的技术之一.控制晶圆温度的主要部件即是静电卡盘,因此静电卡盘与晶圆之间的接触热阻研究至关重要.晶圆是依靠静电而吸附在静电卡盘表面的,且粗糙接触面之间充有稀薄的氦气.本文将静电吸附的因素引入到经典的接触传热理论中,建立了静电卡盘与晶圆之间的接触传热模型,并研究了静电电压和气体压强对于接触传热系数的影响.此外,本文结合作者先前研究中建立并得到验证的全范畴气体导热模型,对静电吸附作用下的接触导热和稀薄气体条件下的气体导热进行了对比,得到了接触导热对总的导热效果的贡献比例.本文的研究有助于揭示静电卡盘和晶圆之间的传热机理,以及二者之间接触热阻的计算.
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内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 静电卡盘与晶圆之间的接触热阻研究
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 接触导热 气体导热 热阻 静电卡盘 晶圆 稀薄气体 影响因素
年,卷(期) 2016,(1) 所属期刊栏目 工艺设备
研究方向 页码范围 86-92
页数 分类号 TL331
字数 语种 中文
DOI 10.13922/j.cnki.cjovst.2016.01.15
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 季林红 清华大学摩擦学国家重点实验室机械工程系 126 1965 24.0 40.0
2 王春财 清华大学摩擦学国家重点实验室机械工程系 5 14 1.0 3.0
3 程嘉 清华大学摩擦学国家重点实验室机械工程系 9 24 2.0 4.0
4 路益嘉 清华大学摩擦学国家重点实验室机械工程系 7 1 1.0 1.0
5 孙钰淳 清华大学摩擦学国家重点实验室机械工程系 3 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
接触导热
气体导热
热阻
静电卡盘
晶圆
稀薄气体
影响因素
研究起点
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真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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