敦煌莫高窟壁画起甲机理研究

• 作者: 倪勇 吉爱红 张国彬 武发思 汪万福 葛承滨
• 来源期刊: 现代电子技术
• 关键词: 壁画 起甲 文物保护 温度场
• 年，卷（期）: 2016,（3）
• 所属期刊栏目: 测试?测量?自动化
• 页码范围: 120-122,126
• 页数: 4页
• 分类号: TN911-34|Q811
• 语种: 中文
• DOI: 10.16652/j.issn.1004-373x.2016.03.031

摘要

研究敦煌莫高窟壁画的起甲机理，为壁画的起甲成因及其修复保护提供理论依据。通过ANSYS 有限元建立温度场下壁画的内力作用模型，分析起甲壁画的临界受力状态。推断壁画温度场和应力场的产生及其分布规律，并观察壁画受热膨胀的结果。随着时间的变化，壁画与空气接触的表面的热量逐渐向内部均匀扩散，引起有一定厚度的壁画的温度梯度升高。壁画在温度场中受温差影响出现了明显的膨胀起甲现象，当起甲达到一定程度时，在外力作用下壁画就会出现脱落。