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摘要:
用高真空磁控溅射设备分别在工作气压为0.40 Pa和0.67 Pa下制备了非晶碳膜全反射镜样品,利用X射线掠入射反射测量了膜层厚度、粗糙度和膜层密度,用原子力显微镜测量了样品的表面粗糙度,用同步辐射测量了不同工作气压下制备的非晶碳膜全反射镜的反射率,并对测量结果进行了分析讨论.测试结果表明:在0.40 Pa工作气压下制备的非晶碳膜反射镜的性能优于在0.67 Pa工作气压下制备的反射镜的性能,在掠入射角小于4.5°时,非晶碳膜全反射镜在5 nm以上波段有比较平坦的高反射率,在波长小于5 nm波段,反射率急剧下降.
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关键词云
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文献信息
篇名 极紫外与软X射线用非晶碳膜全反射镜的研究
来源期刊 光子学报 学科 物理学
关键词 薄膜 非晶碳 全反射镜 软X射线 磁控溅射 反射率
年,卷(期) 2016,(6) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 129-133
页数 分类号 O434.1
字数 语种 中文
DOI 10.3788/gzxb20164506.0631004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王占山 同济大学先进微结构材料教育部重点实验室 92 640 14.0 19.0
5 谭默言 上海应用技术学院理学院 4 1 1.0 1.0
6 蒋励 同济大学先进微结构材料教育部重点实验室 7 166 4.0 7.0
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研究主题发展历程
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薄膜
非晶碳
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磁控溅射
反射率
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