静态顶空-GC/MS技术分析浸膏中的溶剂残留

• 作者: 卢斌斌 孙世豪 孙宝国 张璟琳 曾世通 李娟 黄明泉
• 来源期刊: 烟草科技
• 学科: 工学
• 关键词: 静态顶空 溶剂残留 浸膏 烟草添加剂 气质联用 质量安全
• 年，卷（期）: 2016,（10）
• 所属期刊栏目: 烟草化学
• 页码范围: 60-65
• 页数: 6页
• 分类号: TQ656+.5
• 字数: 4316字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16135/j.issn1002-0861.2016.0150

摘要

为研究浸膏类添加剂中的溶剂残留，采用静态顶空进样结合气质联用仪对5种浸膏（枸杞浸膏、山楂浸膏、杭白菊浸膏、茉莉浸膏、桂花浸膏）共15个样品中的27种残留溶剂进行了定性定量分析。静态顶空条件为60℃平衡15 min，进样体积为0.40 mL，利用NIST谱库和标准品定性，外标法定量。结果表明：①该方法对12种溶剂定量的线性范围良好，线性相关系数均大于0.99，回收率在78.60%~120.80%之间，相对标准偏差为11.50%~16.94%。②枸杞浸膏、山楂浸膏、杭白菊浸膏和桂花浸膏（GH1）中的主要残留溶剂为乙醇；桂花浸膏（GH2、GH3）和茉莉浸膏中的主要残留溶剂为甲基环戊烷、正己烷、异己烷和环己烷。